有关其他渲染设置的信息,请参见“渲染设置”窗口。
mental ray 选项卡由五个选项卡组成:“过程”选项卡、“功能”选项卡、“质量”选项卡、“间接照明”选项卡和“选项”选项卡。
“过程”(Passes)选项卡
使用该选项卡可以执行下列操作:
创建、编辑和删除渲染过程
创建、编辑和删除渲染过程集。渲染过程集是一组渲染过程
创建、编辑和删除渲染过程贡献贴图
管理当前层的渲染过程列表
管理当前层中每个过程贡献贴图的渲染过程列表
注意:有关渲染过程的详细信息,请参见多重渲染过程。
渲染过程(Render Passes)
使用 和
按钮可向当前层添加一个新的渲染过程或新的渲染过程集。
创建新的渲染过程
单击以打开“创建渲染过程”(Create Render Passes)窗口。有关详细信息,请参见“创建渲染过程”窗口。
单击以创建新的渲染过程集。
单击以打开选定渲染过程或渲染过程集的“属性编辑器”(Attribute Editor)。或者,可以双击“场景过程”(Scene Passes)、“关联的过程”(Associated Passes)或“贡献贴图所使用的过程”(Passes Used by Contribution Map)区域中的过程或过程集以打开其“属性编辑器”(Attribute Editor)。
删除选定的渲染过程。
单击以打开关系编辑器。。可以使用“关系编辑器”(Relationship Editor)管理每个过程集的成员身份。
单击以创建新的渲染过程贡献贴图。
单击以打开选定过程贡献贴图的“属性编辑器”(Attribute Editor)。
删除选定的过程贡献贴图。
仅渲染前面(即,其法线向量背离的一面)。
仅渲染背面。
使用体积效果时特别有用。
几何体着色器(Geometry Shaders)
光照贴图(Light Maps)
镜头着色器(Lens Shaders)
置换着色器(Displacement Shaders)
置换预采样(Displacement Pre-sample)
启用置换贴图的预先计算,以查找最佳的边界框。
体积着色器(Volume Shaders)
该设置指定 Maya 着色器中任意体积效果的体积采样数的默认值。默认值为 1。
注意
启用“自动体积”后,光线跟踪将自动启用并灰显。
自动体积(Auto Volume)
如果启用该选项,mental ray 会自动管理体积层级和体积堆栈。
输出着色器(Output Shaders)
光子自动体积(Photon Auto Volume)
合并曲面(Merge Surfaces)
渲染毛发/头发(Render Fur/Hair)
在不同标签(与角色标签不同)之间绘制轮廓线。
启用或禁用(默认)颜色对比度设置。
启用或禁用(默认)深度对比度设置。
启用或禁用(默认)距离对比度设置。
启用或禁用(默认)法线对比度设置。
启用或禁用(默认)UV 轮廓设置。
处理图像时使用固定的每像素采样数。
每像素使用的采样数因场景的对比度而异。“最高采样级别”(Max Sample Level)和“最低采样级别”(Min Sample Level)之差最大不超过 2。
每像素使用的采样数因场景的对比度而异。
“自定义采样”(Custom Sampling)允许独立地调整“最低采样级别”和“最高采样级别”,同时保留真实自适应采样(除非最低采样级别和最高采样级别设定为相同的值)。“自定义采样”(Custom Sampling)还允许将最低采样级别和最高采样级别设定为大于 2。通常,最低采样级别和最高采样级别之差最大不应超过 3。
获得相对理想结果的最快方法。
注意
有关各种过滤器方法的详细信息,请参见 mental ray for Maya 参考文档“场景描述语言”部分的“场景实体”子部分中的“选项”页面。
处理器比长方体更加密集,但可以提供更理想的结果。
创建新的渲染过程集
编辑
删除
过程集关系编辑器
场景过程(Scene Passes)
列出可指定给当前层的所有渲染过程和渲染过程集。将渲染过程或渲染过程集指定给渲染层后,它将不再属于“场景过程”(Scene Passes)列表。换句话说,该列表仅显示未指定给当前渲染层的过程。
关联的过程(Associated Passes)
使用和
按钮可将渲染过程与当前活动渲染层关联起来,使用右箭头按钮可取消渲染过程与当前活动渲染层的关联。
注意
也可以在渲染过程/过程集上单击鼠标右键以将其设定为可渲染;或者,为过程/过程集创建覆盖以使其可渲染。
关联的过程贡献贴图(Associated Pass Contribution Map)
使用该区域可以管理每个过程贡献贴图的渲染过程。从下拉列表中选择要管理的过程贡献贴图。有关过程贡献贴图的详细信息,请参见渲染层编辑器和渲染过程贡献贴图。
新建过程贡献贴图
编辑过程贡献贴图
删除过程贡献贴图
贡献贴图所使用的过程(Passes Used by Contribution Map)
使用上箭头按钮和下箭头按钮管理当前过程贡献贴图的过程列表。
注意:在“关联的过程”(Associated Passes)区域中,会为层生成任何未与过程贡献贴图关联的过程。
预合成
<layer> 的预合成模板(Pre-Compositing Template for <layer>)
使用该区域预合成到 Composite。每个渲染层可以有一个可选的 Composite 预合成模板文件与之相关联。选择“渲染”(Render) >“导出预合成”(Export Pre-Compositing)时,会使用该预合成文件(输入文件路径和文件名)。如果该字段留空,则会在不使用模板的情况下构建合成,并仅提供已渲染的过程。在这种情况下,用户必须框选渲染过程以创建合成。提供的默认模板覆盖 Maya 中所有可用的渲染过程。有关详细信息,请参见导出多重渲染过程以在 Composite 中合成。
使用 MasterLayer 的模板(Use MasterLayer’s Template)
使用该属性标记层的 precompTemplate 值是否与 masterLayer 的值相同。
“功能”(Features)选项卡
渲染模式(Render Mode)
选择下列选项之一:
正常(Normal)
渲染“渲染设置”(Render Settings)窗口中设定的所有功能。
仅最终聚集(Final Gathering Only)
仅执行最终聚集计算。使用该模式可创建或更新与渲染层关联的最终聚集贴图文件。还可以用于为每个帧或特定的帧创建最终聚集贴图文件。创建最终聚集贴图后,用户即可切换回“正常”(Normal)模式,然后重新使用预先计算的最终聚集贴图文件进行最终聚集渲染。
仅阴影贴图(Shadow Map Only)
(可选)每个灯光都可以启用阴影贴图(正常或详细)。在正常渲染过程中,阴影贴图是针对需要阴影贴图的部分“按需”计算的。“仅阴影贴图”(Shadow Map Only)模式旨在预先计算阴影贴图文件,而不触发其他任何渲染进程。这非常有助于提高渲染速度,因为预先计算的阴影贴图可以由渲染场上的其他几台计算机使用。阴影贴图依赖于灯光位置和对象位置;如果要移动其中任何元素,阴影贴图很可能需要重新计算。该模式并不检测哪些灯光需要更新,而是系统地重新计算所有包含阴影贴图语句的灯光。
仅光照贴图(Light Map Only)
光照贴图有两个用途:自定义烘焙(每个对象都需要一个特殊的着色网络)和次表面散射。“仅光照贴图”(Light Map Only)模式主要用于强制计算所有光照贴图,而不触发其他任何渲染进程。通过执行该操作,该模式允许预先计算基于光照贴图的着色,如次表面散射。用户可以预先计算所有光照贴图和次表面散射贴图,作为预渲染过程。由于已计算次表面散射贴图,场上的渲染会更高效。
次效果(Secondary Effects)
选择下列选项之一:
光线跟踪(Raytracing)
启用或禁用光线跟踪。启用反射和折射。
全局照明(Global Illumination)
启用或禁用全局照明。
焦散(Caustics)
启用或禁用焦散。
重要性粒子(Importons)
启用或禁用重要性粒子。启用光线跟踪时可以使用重要性粒子,并可以结合使用全局照明、焦散和辐照度粒子。有关重要性粒子的详细信息,请参见重要性粒子。
最终聚集(Final Gathering)
启用或禁用最终聚集。
辐照度粒子(Irradiance Particles)
启用或禁用辐照度粒子。默认情况下,启用辐照度粒子也将启用重要性粒子。如果启用了最终聚集,则会禁用辐照度粒子。
环境光遮挡(Ambient Occlusion)
启用或禁用环境光遮挡。
注意
如果要创建环境光遮挡过程,则必须启用“环境光遮挡”(Ambient Occlusion)。有关详细信息,请参见多重渲染过程。
阴影(Shadows)
启用或禁用阴影。
运动模糊(Motion Blur)
选择下列选项之一:
禁用(Off)
禁用运动模糊。
无变形(No Deformation)
“无变形”(No Deformation)仅考虑快门起点和终点(打开点和关闭点)的对象位置。它执行基于对象的插值,速度快但受限制。
完全(Full)
“完全”(Full)的渲染速度比较慢,但可以实现真实(即精确)的运动模糊效果。每个变形曲面都是“逐顶点”平移,而不是逐对象变换。
附加功能(Extra Features)
面(Faces)
确定是对整个场景进行双面渲染还是单面渲染。
前(Front)
后(Back)
二者(Both)
禁用这些选项时可在场景中全局禁用以下功能:
体积采样数
轮廓(Contours)
以下属性控制轮廓线渲染的位置和特征。
启用轮廓渲染(Enable Contour Rendering)
启用或禁用(默认)轮廓渲染。
隐藏源(Hide Source)
如果启用,则仅轮廓可见(即,使轮廓不可见的对象)。
整体应用颜色(Flood Color)
如果启用“隐藏源”(Hide Source),这将是在渲染轮廓之前,整体应用于整个帧或填充整个帧以作为背景色的轮廓。换句话说,该颜色是用于绘制由“隐藏源”(Hide Source)生成的轮廓的颜色。
过采样(Over-Sample)
通过以大于正确采样尺寸 N 倍的尺寸进行处理来提高质量。如果该值设置为 2,将以两倍的分辨率处理轮廓,因此质量(主要是抗锯齿质量)将大约为原来的两倍。
过滤器类型(Filter Type)
将轮廓降低采样至图像分辨率时使用的过滤器类型。
过滤器支持(Filter Support)
以(分数)像素数表示的过滤器支持。
按特性差异绘制(Draw By Property Difference)
使用检测区域中的选项可以定义 mental ray for Maya 检测和绘制轮廓线的位置。
围绕轮廓(覆盖) (Around silhouette (coverage))
根据基于对象覆盖的像素的像素覆盖(其中存在渲染采样检测对象)绘制轮廓线。
围绕所有多边形面(Around all poly faces)
围绕对象上的每个多边形面绘制轮廓线。
围绕共面面(Around coplanar faces)
在不同法线之间绘制轮廓线。
不同实例之间(Between different instances)
在不同实例之间绘制轮廓线。
不同材质之间(Between different materials)
在具有不同材质的基本体之间绘制轮廓线。
不同标签之间(Between different labels)
围绕渲染细分(Around render tessellation)
在不同基本体之间绘制轮廓线。(实际上,启用该设置将绘制细分。)
前后面轮廓(Front vs. back face contours)
如果各个采样的法线向量和视图向量的点积符号各不相同,则在其间绘制轮廓线。
按采样对比度绘制(Draw By Sample Contrast)
启用颜色对比度(Enable Color Contrast)
颜色对比度(Color Contrast)
在色差大于设定值的像素之间绘制轮廓线。
启用深度对比度(Enable Depth Contrast)
深度对比度(Depth Contrast)
在深度差(在摄影机空间中)大于设定值的像素之间绘制轮廓线。
启用距离对比度(Enable Distance Contrast)
距离对比度(Distance Contrast)
在距离大于设定值的像素之间绘制轮廓线。
启用法线对比度(Enable Normal Contrast)
法线对比度(Normal Contrast)
在法线差大于设定值的像素之间绘制轮廓线。(法线差的度量单位为度。)
启用 UV 轮廓(Enable UV Contours)
UV 轮廓(UV Contours)
在主要 UV 空间的每条 U 等值线和 V 等值线处绘制轮廓。
自定义着色器(Custom Shaders)
从此处可以连接 mental ray for Maya 基础轮廓存储和对比度着色器。此处连接的任何着色器会覆盖集成的轮廓渲染功能。
“质量”(Quality)选项卡
采样(Sampling)
采样模式(Sampling Mode)
在下列采样模式中进行选择:“统一采样”(Unified Sampling)、“旧版光栅化器模式”(Legacy Rasterizer Mode)和“旧版采样模式”(Legacy Sampling Mode)。
统一采样选项为主采样设置提供了一个简化的用户界面。这些方法使用 mental ray 中增强的采样策略以避免典型的瑕疵,如明显的常规图案。当启用“统一采样”(Unified Sampling)时,您只需要一组很少的控件即可调整主采样。尤其是,您可以使用单独的“质量”(Quality)滑块。
统一采样可以统一时间和空间采样,并且每条光线都有其自己的空间和时间采样。现在可以更加轻松地使用运动模糊调整渲染,以及使用运动模糊和景深渲染可以获得更好的性能。
注意选择的“采样模式”(Sampling Mode)不同,选项卡中可以使用的功能也不同。
提示“统一采样”(Unified Sampling)模式不支持轮廓渲染。针对轮廓渲染,改为使用“旧版采样模式”(Legacy Sampling Mode)。
统一采样(Unified Sampling)
质量(Quality)
使用该滑块可以自适应地控制图像质量。使用统一采样时,这是用于调整图像质量的主控件。
最小采样数/最大采样数(Min Samples/Max Samples)
每像素最小和最大采样数。如果调整“质量”(Quality)设置后,您发现不再有任何改进,请增加“最大采样数”(Max Samples)。如果启用了诊断采样选项,且 mr_diagnostic_buffer_samples 反映渲染看起来杂乱的某些区域已达到“最大采样数”(Max Samples),请增加“最大采样数”(Max Samples)。
误差中止(Error Cutoff)
误差低于该阈值时停止采样像素。除非绝对必要,否则不要调整该属性。
颜色对比度(Contrast As Color)
每通道控制采样质量。对于调整渲染非常有用,但应视其为专家选项;非必须情况不使用。
渐进式模式(Progressive Mode)
渐进式渲染开始时使用较低的采样速率,然后逐步优化采样数量以达到最终结果。将该选项设定为“仅 IPR”(IPR Only)以将渐进式统一采样与 IPR 搭配使用。
若要使用该功能,必须启用“渲染视图”(Render View)窗口中的“IPR > IPR 质量 > IPR 渐进式模式”(IPR > IPR Quality > IPR Progressive Mode)。详细信息请参见渲染视图菜单栏。
您可以将该功能与可选的“子采样大小”(Subsample Size)和“最大时间”(Max Time)设置一起使用。
子采样大小(Subsample Size)
将该设置与“渐进式模式: 仅 IPR”(Progressive Mode: IPR Only)一起使用。使用该设置可通过最初欠采样 NxN 像素进行快速预览。值越大意味着欠采样程度越高,从而获得更快的初始预览。
最大时间(Max Time)
将该设置与“渐进式模式: 仅 IPR”(Progressive Mode: IPR Only)一起使用。该设置允许您为渲染设置最大时间限制(以秒为单位),其中,设置为 0 表示没有时间限制。
旧版光栅化器模式(Legacy Rasterizer Mode)
着色采样数(Shading Samples)
每个空间采样的着色速率。
采样数(Samples)
用于抗锯齿的每个像素的采样数。
旧版采样模式(Legacy Sampling Mode)
旧版采样模式(Legacy Sampling Mode)
选择下列选项之一:
固定采样(Fixed Sampling)
自适应采样(Adaptive Sampling)
自定义采样(Custom Sampling)
最低采样级别(Min Sample Level)
这是处理图像时使用的保证最小每像素采样数。基于抗锯齿对比度设置,mental ray for Maya 将根据需要增加这些采样。
可以在该字段中输入负值。此时将执行欠采样,而不是超级采样,其中每 N 个像素采样 1 个像素,具体取决于“最低采样级别”(Min Sample Level)设置。
最高采样级别(Max Sample Level)
这是处理图像时使用的绝对最大每像素采样数。
采样数(Number of Samples)
表示基于当前设置要计算的实际采样数。
注意选定“自适应采样”(Adaptive Sampling)后,“最高采样级别”(Max Sample Level)和“最低采样级别”(Min Sample Level)之差最大不超过 2。这是推荐设置。
对于高级用户:如果要覆盖逐对象采样的默认推荐设置,请选择“自定义采样”(Custom Sampling)。
抗锯齿对比度(Anti-aliasing Contrast)
使用滑块设定对比度阈值。减小该值会增加采样(最多不超过最高采样级别),这将产生较高的质量,但是需要更长的处理时间。根据图像的实际对比度,可能无法获得更好的结果(即,结果受到对比度数值的限制)。
注意
该属性以前称为“对比度阈值”,具有一个用于 RGB 值的滑块和另一个用于 Alpha 值的滑块。在后台,有单个滑块将 RGBA 设定为相同的值。如果需要不同的 RGBA 值,则可以通过编写脚本或通过 miDefaultOptions 节点执行该操作。
采样选项(Sample Options)
过滤器(Filter)
这是对采样结果执行的处理,以将像素混合成相关实体。黑白 = 噪波。过滤查询相邻信息并将二者统一在一起。
建议在渲染器中应用过滤,因为渲染器中有更多可用信息(采样),并且过滤在应用于采样时可以比作为后期处理应用于像素时提供更好的控制。
长方体(Box)(默认)
三角形(Triangle)